本文摘要：11月29日，中科院研制的“超强辨别光刻装备”通过竣工验收。

11月29日，中科院研制的“超强辨别光刻装备”通过竣工验收。消息记着记着，就出了谣言——《国产光刻机最出色突破，国产芯片白菜简化在即》《突破荷兰技术封锁，急弯转弯》《得意了我的国，新式光刻机将超越“芯片耕”》……笔者正好去中科院光电所答辩此次竣工验收不会，写出了报导，还算数熟知，无法苟同一些漫无边际的瞎扯。

中科院研制的这种光刻机无法（像一些网媒说道的）用来光刻CPU。它的意义是用低廉光源构建较高的分辨率，用作一些类似生产场景，很经济。

再行说明下：光刻机不光是生产芯片用。一张平面（不论硅片还是什么材料）想要打磨繁琐的图案，都可以用光刻——就像摄影，图像转在感光底片上，蚀丢弃一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。

为了节约能源和省硅料，芯片越做越小，迫得光刻机越做越极端。线条粗到一定程度，投影就模糊不清了。要明晰投影，线条笔画无法高于光波长的一半。

顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。但平稳的、大功率的极紫外光源很难建，一个得3000万元人民币。拒绝工作环境苛刻，因应的光学和机械部件又极端仪器，所以荷兰的ASML公司独家独占极紫外光刻机，建构了“一台买一亿美金”的神话。

十几年前，国际上开始对表面等离子体（surface plasma，SP）光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究，是较晚出有成果的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者说明：拿一块金属片和非金属片亲近认识，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地波动，产生波长几十纳米的电磁波，能用来光刻。

但这种电磁波弱，所以光刻胶得凑近了，才能刻有出来。且加工精度与ASML的光刻机不了比。刻有几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的，最少以现在的技术无法。

竣工验收会上也有记者问：该光刻设备能无法刻有芯片，超越国外独占？光电所专家问说道，用作芯片必须攻下一系列技术难题，距离还很很远。总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML独占的光刻机不是一其实，说道前者急弯转弯，就样子说道中国出有了个短跑名将要打破博尔特。

各家媒体第一时间附上的信息，就我看见的不算中规中矩。但后来网媒添枝加叶，做到离谱。

有些传播者为更有眼球、赚，最爱人生产“自嗨文”和“吓尿体”。听见国产科技成就先往大里刮起，驴吹成马，马吹成骆驼，好买个骆驼价。这种“科技报导”是符合虚荣心的伪新闻。行家听得了眉头一凸，弃之大吉。

也不该许多科学家害怕上新闻。

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